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西安某光电器件厂引起具体步骤中而且引起高硅生产废水处理工艺处理方法(SiO₂ 500-800mg/L)和含氟生产废水处理工艺处理方法(F⁻ 200-300mg/L)。两个生产废水处理工艺处理方法交织而后容易成型氟硅酸胶体溶液,中国传统学沉淀出的法难于相对稳定合格。产品细则要求数据同步剔除硅和氟(排污细则:SiO₂≤30mg/L,F⁻≤10mg/L)。
焦化废水材质及由来
首要的成分
:硅酸氢钠(NaHSiO₃)、氟化铵(NH₄F)、异丙醇
渠道
:晶圆刻蚀污电镀废水 、CMP考虑污电镀废水 、主设备擦拭水
操作操作流程操作流程
推进沉积的阶段
:
两极症状池
:
首级加药系统Ca(OH)₂转化成CaF₂和CaSiO₃积累;
第二点级添加PAC(缩聚氯化铝)强化木纹地板二沉池。
固液隔离步骤
:
反渗透膜机系统
:采取0.02μm外径膜模块虚报冒领胶体溶液硅和微细滤渣物。
深入脱氟的阶段
:
活力性氧化反应铝物理吸附塔
:残留物氟阴离子物理吸附避开。
终极成效
留水SiO₂≤25mg/L,F⁻≤8mg/L,远依赖于部委标准化。
反渗透装置机系统通量相对稳定在15LMH,药剂学洗时期延迟至60天。
厌氧颗粒污泥经压滤后含水量率<65%,可按平常固体废物外理。