半导体晶圆划片废水怎么处理方法|半导体晶圆划片废水处理案例
产品蓝本
该公司公司商家为全球性顶尖的半导体材料测封公司公司商家,座落在珠四角中南部,关键进行舒适鑫霖环保芯片的片区和封装类型考试。致使地方健康耍求严格要求,公司公司商家影响制定化工废水无废气排放标准建设该项目。该项目于2024年重启,2024年6月建设完工投运,办理面积为200吨/日,总加盟约2000百万元。
污废水 组分及来历
这项原因小学划片生产废水具备有下述优缺点:
高氧浓硫酸浓度氟化物,重要原于晶圆切割器后的清理工艺技术,氟铁离子氧浓硫酸浓度高达独角兽150-200mg/L
包含纳米级级硅粉粉末,颗粒直径多在100-500nm期间
充分工况较高,COD在500-800mg/L
包含有少量高价属如铅、镉等
电阻率高,基本在2000-3000μS/cm
治理 工艺技术标准流程
为保证 无废气排放标准指标,流程构思重在选择废气分级收集整理和产品的回收利用:
废污水种类汇集系统的
:将含氟废渣与任何废渣拆开持续
化工滤渣除氟
:通过多级钙盐沉积法,密切配合高效率沉积池
精致腐蚀除理
:臭氧杀菌促使氧化物分解难补救有机会物
膜精炼整体
:利用DTRO碟管式反渗入,萃取公因数为10倍
化掉成果
:MVR机械设备制造液体再减小蒸馏器进行处理浓水
缺水控制系统
:将凝结盐干澡后看做工业品副新产品外售
办理作用
软件加载数据统计界面显示:
氟化物我们要除率>99.9%,满水后氟阳离子<1mg/L
COD总避开率>98%,留水COD<20mg/L
水网络资源再利用率>95%,仅引起多量晶体盐
年年可收购高品控工业废水处理水约10万吨
结晶体盐饱和度可达到工业化级条件,进行影视减量化再生利用
投资项目不光控制了废气零释放,还确认成本回收公司追求了约80W/年的额外的利润。